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M系列光束筆尖陣列光刻系統：聚合物筆無掩模光刻納米制造系統（polymer pen lithography）聚合物筆納米無掩模光刻制造系統PPL, 使用可達160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無需光掩膜，且在平方厘米范圍內達到200納米以下的分辨率。
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